Характеристики
- Высокая плотность изображения даже для самых мелких деталей изображения.
- Высокий контраст.
- Полиэфирная основа толщиной 0,18 мм с высокой поверхностной стабильностью.
- Температурный коэффициент линейного расширения, %
обработанной 0,0018
необработанной 0,0018
- Коэффициент влажности при линейном расширении, % на 1%
обработанной 0,0011
необработанной 0,0012
- Диапазон изменения размеров при обработке, зависит от условий сушки.
Температура сушки 35 ºС
- Превосходная резкость линии.
- Качество эмульсии и контроль ширины линии.
- Антистатический слой обеспечивает отсутствие пыли на поверхности пленки.
- Специальный эмульсионный слой предохраняет материал от образования колец Ньютона.
- Четкость кромки линии на шаблоне обеспечивает оптимальный перенос изображения на фоторезист.
- Упаковка изготовлена с учетом требований чистой комнаты.
- Высокая стабильность и низкое потребление химии.
- Высокая плотность изображения даже для самых мелких деталей изображения и широта экспозиции.
- Очень хорошая размерная стабильность.
- Высокая устойчивость к сопротивлению.
- Оптимальное транспортное и вакуумное поведение пленки.
Инструкция для пользователя
Технические характеристики
Dmax не менее 5,5
Коэфф. контрастности не менее 8,0
Фотографические характеристики пленки
Рекомендуемый процесс обработки
1. Машинная обработка
Все типы процессоров Rapid Access
Проявители Pdev
Время обработки 30 – 35 сек.
Температура 32оС – 35оС
Регенерация 50 % почернение 250 мл/м.кв.
На окисление 2 л/сутки
Фиксаж Pfix, G333c
Температура 35оС
Регенерация 50% почернение
Освежитель без электролиза 500 мл/м.кв.
с электролизом 125 мл/м.кв.
Промывка:
для оптимальной размерности 20оС
2. Освещение темной комнаты
Светофильтр EncepSullite T 20/ND.75 на расстоянии не менее 1,2 м от пленки.
Экспозиция
Величина экспозиции определяется экспериментально для каждого фотоплоттера
Рекомендации для размерной стабильности пленки
1. Фотопленка должна быть выдержана от 4 до 7 часов в условиях рабочего помещения, т.е. рядом с фотоплоттером.
2. Поддерживать постоянную температуру (±1ºС) и относительную влажность воздуха во всех помещениях, где используется пленка.
3. Стандартизировать температуру сушки фотопленки в проявочной машине в зависимости от влажности помещения. Более точная температура сушки должна быть установлена опытным путем.
4. Определить время адаптации фотопленки после ее обработки в проявочной машине, измеряя через 5 минутные интервалы размер между базовыми точками.
Создание условий в рабочих помещениях
1. Периодически убирать помещение с помощью пылесоса и делать влажную уборку.
2. Любые поверхности для работы с пленкой должны быть проверены на отсутствие заусенцев.
3. Дверь в помещение должна быть плотно закрыта.
4. Светофильтр для неактиничного освещения должен быть установлен в соответствии с инструкцией.
Условия работы с фотопленкой
Поверхность пленки должна полностью контактировать с воздухом для идеальной адаптации ее к климатическим условиям чистой комнаты. Отдельные листы поместить рядом с фотоплоттером.
Хранение пленки
Экспонированную или обработанную пленку хранить в сухом и прохладном месте при температуре воздуха 21 ºС и относительной влажности воздуха 50 %. Пленку рекомендуется обрабатывать как можно скорее после экспонирования.