Фототехническая пленка Agfa Idealine

 
Высококонтрастные пленки на толстой полиэтилентерефталатной основе толщиной 175 мкм для изготовления прозрачных фотошаблонов, предназначенных для высококачественных работ в радиотехнической промышленности, картографии и химической индустрии.
Фотопленки созданы для удовлетворения различных требований при производстве печатных плат, направленных на минимизацию электронных узлов, т.е. на уменьшение ширины проводника и зазора, а также увеличения количества слоев при производстве печатных плат.

Фотопленка разработана на основе галоидов серебра с использованием последней технологии:

• Превосходная резкость линии.
• Качество эмульсии и контроль ширины линии.
• Антистатический слой обеспечивает отсутствие пыли на поверхности пленки.
• Четкость кромки линии на шаблоне обеспечивает оптимальный перенос изображения на фоторезист.
• Высокая стабильность и низкое потребление химии.
• Высокая плотность изображения для самых мелких деталей изображения.
• Очень хорошая размерная стабильность.
• Защитный слой предохраняет от повреждения поверхность фотошаблона, что позволяет многократное использование фотошаблона при копировании.
• Матированный слой со стороны основы обеспечивает быстрое вакуумное транспортное протягивание пленки через фотоплоттер.