Внедрение технологий, поставка оборудования и расходных материалов для производства печатных плат и полиграфии
8 (499) 640-82-64 (многоканальный)
+7 (916) 144-40-41

Фототехническая пленка  и химия 

Lucky HYAGUANG

 

Высококонтрастные фототехнические пленки на полиэтилентерефталатной основе для изготовления прозрачных фотошаблонов, предназначенных для высококачественных работ в радиотехнической промышленности, картографии и химической индустрии.

Фотопленки созданы для удовлетворения различных требований при производстве печатных плат, направленных на минимизацию электронных узлов, т.е. на уменьшение ширины проводника и зазора, а также увеличения количества слоев при производстве печатных плат.

Фотопленка разработана на основе галоидов серебра с использованием последних технологий.

 

 

Тип

Экспонирование

Основа

Описание

RP-7 PCB Film

Гелий-неоновый лазер (633нм) или красный лазерный диод (650 - 670 нм)

Фотоплоттер

175 мкм

Панхроматическая высококонтрастная пленка для изготовления растровых и штриховых фотоформ в фотоплоттерах и фотонаборных устройствах.

Agfa Recording HNS

 

ФНА

100 мкм

 

RL-M

матовая

 

ФНА

100 мкм,

 

YZ-800

 

Сине-зеленый лазерный диод

 (500 - 553 нм) или аргоновый лазер (488 нм).

Фотоплоттер,

Копировальная рама

100 мкм

Ортохроматическая пленка с высокой скоростью обработки и отличным качеством результатов с гарантированной четкостью линий даже при экспонировании через подложку.

100 мкм

GRL-II

 

UV чувствительность:

(355 нм)

Оборудование для прямого экспонирования, Копировальная рама

100 мкм

Негативная пленка для контактных работ и изготовления рабочих копий фотошаблонов. Возможность работы в светлой комнате.

Химия для обработки фотопленок

 

 HG 2000

Проявитель

Обработка всех типов пленок по процессу Rapid Access (Рапид Аксесс) и используется, как для машинной, так и для ручной обработки

 HG 2000

Фиксаж