Тип

Экспонирование

Основа

Описание

Agfa Recording HNS

(Китай)

Гелий-неоновый лазер (633нм) или красный лазерный диод (650 - 670 нм

ФНА

100 мкм

Панхроматическая высококонтрастная пленка для изготовления растровых и штриховых фотоформ в фотоплоттерах и фотонаборных устройствах

RL-M

ФНА

100 мкм, матовая для флексо печати

YZ-800

сине-зеленый лазерный диод

 (500 - 553 нм)

 или аргоновый лазер (488 нм).

Фотоплоттер,

Копировальная рама

100 мкм

Ортохроматическая пленка с высокой скоростью обработки и отличным качеством результатов с гарантированной четкостью линий даже при экспонировании через подложку.

100 мкм

GRL-II

UV чувствительность

355 нм

Прямое экспонирование, Копировальная рама

100 мкм

Негативная пленка для контактных работ и изготовления рабочих копий фотошаблонов. Возможность работы в светлой комнате.

Химия для обработки фотопленок

HG 2000

Проявитель

Обработка всех типов пленок по процессу Rapid Access (Рапид Аксесс) и используется, как для машинной, так и для ручной обработки

HG 2000

Фиксаж

ФТОТЕХНЧЕСКАЯ ПЛЕНКА 







   для флексопечати  LUCKY  Huaguang  RL-M

Матовая пленка RL-M используется  для вывода изображения на лазерных фотонаборных  автоматах рулонного типа (ФНА) с источником  излучения 632,8 – 670нм. Пленка обладает  следующими свойствами:

• высокая чувствительность,

• высока плотность,

• высокая твердость точки,

• широкий диапазон проявки,

• быстрое закрепление и  сушка.

 Матовая пленка подходит для  флексографической печати,

 быстро вакуумируется  и равномерно распределяется. 

Стандартные форматы 

390mm×60m 610mm×60m 406mm×60m 

660mm×60m 457mm×60m 813mm×60m 

508mm×60m 838mm×60m 558mm×60m 

914mm×60m