ФОТОРЕЗИСТ

DuPont ^TM MX5000C^см Series

Высокопроизводительная многоцелевая полимерная пленка для применения в микроэлектронике

Характеристики и область применения продукта

• Сухой пленочный негативный фоторезист водного проявления.
• Трехслойная система

Полиэфирная пленка

Микролитографическая полимерная пленка

Полиэтиленовая пленка

• Применяется  для кислого и щелочного травления.
• Высокое качество печати изображения(фототропное) после экспонирования.
• Серия MX5000C совместима со следующими типами поверхности:
  • Кремний
  • Нитрид кремния
  • Медное напыление
  • Золотое напыление
  • Серия MX5000C обладает хорошей адгезией к:
    • Стеклу
    • Полимерам
    • Другим металлам и оксидам

• Совместим c золотом  и всеми распространенными гальваническими ваннами, в том числе кислого меднения, оловянирования, лужения, кислого золочения  и никелирования в сульфоматных электролитах.

Толщина фоторезиста  - 15.....50 мкм

Цвет фоторезиста  при желтом освещении:

- до экспонирования: светло-зеленый

- после  экспонирования: темно-зеленый

MX5000C способен тентировать на поверхность уже протравленных объектов.

Это свойство сильно зависит от размера объекта, толщины полимера и условий ламинирования.