Новый фоторезист для микроэлектроники DuPont MX 500025.10.2017
Фирма DuPont выпустила новую серию фоторезиста для микроэлектроники DuPont MX 5000.
Это многоцелевой сухой пленочный негативный фотополимер для водно-щелочного проявления.Совместим со всеми распространенными гальваническими ваннами, в том числе для кислого меднения, оловянироания, лужения, кислого золочения и никилирования в сульфоматных электролитах. Способен тентировать поверхность протравленных объектов.
Имеет
хорошую адгезию к различным подложкам на основе стекла, кремния, металлам и оксидам, различным полимерам и т.д.
Толщина фоторезиста 15 мкм.
Все новости
|