Внедрение технологий, поставка оборудования и расходных материалов для производства печатных плат и полиграфии
8 (499) 640-82-64 (многоканальный)
+7 (916) 144-40-41

Клин Штоуффера

Инструкция

  1. Установите тестируемый фоторезист на свою вакуумную установку экспонирования, чтобы сделать несколько пробных экспозиций на отдельных частях платы.
  1. Сделайте три экспозиции:

-           первую с учетом прошлого опыта работы или обычно используемую в повседневном производстве;

-          вторую с меньшей экспозицией;

-          и третью с большей экспозицией.

Возможно, потребуется повторить эту процедуру  тестирования  с использованием различного времени экспонирования

  1. Проявите тестируемый образец фоторезиста, при времени и температуре рекомендованной производителем.
  1. Изучите поля изображений ступенчатого клина при различных экспозициях. Выберите лучший клин, в котором 7-8 поле по 21-ступенчатому клину покрыто фоторезистом.

При этом допускается частичное разрушение фоторезиста на поле, но его остаток должен быть более 50%.

  1. Рекомендации DuPont для фоторезиста Riston по энергии экспонирования и соответствия шкале Штоуффера

Тип фоторезиста Riston

Энергия экспонирования

мДж/см2

Поле

по 21- ступенчатому клину Штоуффера

РМ 240

35-78

7-9

РМ 250

40-90

7-9

РМ 275

52-104

7-9

215

35-90

8-10

220

45-100

8-10

ММ 540

25-55

7-9

ММ550

28-60

7-9