Внедрение технологий, поставка оборудования и расходных материалов для производства печатных плат и полиграфии
8 (499) 640-82-64 (многоканальный)
+7 (916) 144-40-41

Растворы  для снятия фоторезиста и защитной паяльной маски

RISTOFF C-8

Применение:

Паяльная маска

  • Низкая температура : 50°C
  • Щелочной процесс
  • Двойная концентрация
  • Не требуется дополнительной очистки, полоскания
  • Успешная работа со всеми типами паяльных масок

RISTOFF C-53

Применение:

Фоторезист

  • Стандартное
  • Внутренние и внешние слои
  • Покрытие никель/золото
  • Щелочное и кислое травление

RISTOFF C-71

Применение:

Фоторезист

  • Базовый состав : MEA (Моноэтаноламин)
  • Внешние слои
  • Кислое травление