Фототехническая пленка и химия
Lucky HYAGUANG
Высококонтрастные фототехнические пленки на полиэтилентерефталатной основе для изготовления прозрачных фотошаблонов, предназначенных для высококачественных работ в радиотехнической промышленности, картографии и химической индустрии.
Фотопленки созданы для удовлетворения различных требований при производстве печатных плат, направленных на минимизацию электронных узлов, т.е. на уменьшение ширины проводника и зазора, а также увеличения количества слоев при производстве печатных плат.
Фотопленка разработана на основе галоидов серебра с использованием последних технологий.
|
Тип
|
Экспонирование
|
Основа
|
Описание
|
|
RP-7 PCB Film
|
Гелий-неоновый лазер (633нм) или красный лазерный диод (650 - 670 нм)
|
Фотоплоттер
|
175 мкм
|
Панхроматическая высококонтрастная пленка для изготовления растровых и штриховых фотоформ в фотоплоттерах и фотонаборных устройствах.
|
|
Agfa Recording HNS
|
ФНА
|
100 мкм
|
|
RL-M
матовая
|
ФНА
|
100 мкм,
|
|
YZ-800
|
Сине-зеленый лазерный диод
(500 - 553 нм) или аргоновый лазер (488 нм).
|
Фотоплоттер,
Копировальная рама
|
100 мкм
|
Ортохроматическая пленка с высокой скоростью обработки и отличным качеством результатов с гарантированной четкостью линий даже при экспонировании через подложку.
|
|
100 мкм
|
|
GRL-II
|
UV чувствительность:
(355 нм)
|
Оборудование для прямого экспонирования, Копировальная рама
|
100 мкм
|
Негативная пленка для контактных работ и изготовления рабочих копий фотошаблонов. Возможность работы в светлой комнате.
|
|
Химия для обработки фотопленок
|
|
HG 2000
|
Проявитель
|
Обработка всех типов пленок по процессу Rapid Access (Рапид Аксесс) и используется, как для машинной, так и для ручной обработки
|
|
HG 2000
|
Фиксаж
|
|